2025年03月12日 13:37:34《科創板日報》12日訊，報道稱三星電子本月初在其華城園區引入了ASML生產的High NA極紫外光刻（EUV）設備，希望提升2納米及以下制程的競爭力。 (FNnews)
我要評論
反饋意見 
圖片歡迎您發表有價值的評論，發布廣告和不和諧的評論都將會被刪除，您的賬號將禁止評論。
發表評論
關聯話題
1.95W 人關注
財聯社 ?2018-2025上海界面財聯社科技股份有限公司 版權所有滬ICP備14040942號-9滬公網安備31010402006047號互聯網新聞信息服務許可證：31120170007滬金信備 [2021] 2號